谈起芯片就绕不开一个词——光刻机。有人说制造一台先进的光刻机比造一颗原子弹还难，而谈起光刻机就绕不开ASML（阿斯麦），先进EUA光刻机唯一供应商。
身为光刻机之王，ASML的崛起之路并不平坦。
第一次光刻机大战：称霸的美国人
1904年，弗莱明发明了真空二极管，标志着人类进入电子时代；
1947年，贝尔实验室三人组发明了晶体管，这一伟大的发明改变了人类历史，晶体管的发明引发了电信和电脑等各方面的革命，随之取代了真空管的地位。晶体管是所有电子产品的细胞，现代电脑芯片上有上亿个微小的晶体管。
1959年，集成电路诞生。同年，传奇公司GCA收购了David Mann；而在1961年David Mann推出了世界上第一台光刻机——971型，这台光刻机完全能够满足当时晶体管的制造水平，IBM、太平洋半导体、IT以及飞利浦都在使用这款光刻机。
不少企业都想复制David Mann的成功，于是纷纷踏入光刻机市场，竞争变得激烈。尽管如此，当年的光刻机市场还是很小，当时市面上只有两种光刻机：接触式光刻机和渐进式光刻机，这两种光刻机生产的芯片良率很低，因此芯片价格极高。
1974年，在美国军方的支持下，Perkins Elmer推出了划时代的光刻机——Micralign 100。光刻技术进入了投影式时代。芯片良率大幅度提升，芯片价格随之降低，英特尔、IT的订单也随之而来，Perkins Elmer成了当时最大的半导体设备公司。
随着芯片制程缩小，Perkins Elmer迟迟没有开始下一代光刻机的研发，GCA凭着首台搭载自动化硅片工件台的步进式光刻机——DSW 4800夺回市场，尼康和佳能也后来居上。
80年代之前，光刻机的竞争主要围绕美国几个厂商间进行展开，美国人赚了第一桶金。
第二次光刻机大战：逆袭的日本人
在美国的厂商们正激烈竞争时，日本厂商悄然崛起。
1980年，尼康通过山寨GCA的光刻机，成功推出了自己的首台步进式光刻机，随后在日本电气和东芝的加持下，尼康不断迭代更新技术，在1982年成功把光刻机卖给了IBM和IT。
尼康的NSR-1010G
外有尼康的竞争，内有光刻机产能问题，1984年GCA的出货量被尼康打平。同年，佳能也推出了自己的首款步进式光刻机FPA-1500FA。
仅一年时间，尼康正式超过GCA，成为全球第一大光刻机供应商。
第三次光刻机大战：崛起的欧洲人
在日美厂商竞争白热化的时候，欧洲也开始搞光刻机了。
飞利浦是欧洲最先研发光刻机的，1984年4月1日ASML脱胎飞利浦正式成立，但是在成立之后的10年间，ASML都不曾盈利。ASML第一任CEO贾特·斯密特决定开发新一代采用电动晶圆台的光刻机——PAS 2500。敢于挑战，重视创新，通力合作，ASML推开了光刻机世界的大门！
1986年，ASML开始与蔡司进行深入合作，改进光刻机光学系统，推出第二代PAS 2500，并第一次卖给了当时还是初创公司的Cypress。与日本相比，ASML的光刻机还是不好卖，就连飞利浦都没能拯救ASML，这时，台积电来了。
时势造英雄，两个默默无闻的公司因飞利浦MEGA项目的失败相遇了。1988年，台积电的17台光刻机订单让ASML勉强度过难关，让ASML有精力继续研究光刻机。于是ASML历史上划时代的作品诞生：PAS 5500，ASML翻身之作。1991年，ASML几经波折争取到了IBM的订单，有IBM在前验证，ASML的光刻机的实力被更多厂商肯定，三星、海力士的订单随之而来。1995年3月14日，ASML在美国纳斯达克成功上市。
与尼康的世纪之战即将打响！
一代设备，一代工艺。本世纪初，光刻机的波长来到157nm，尼康一直在光源上做文章，专注于对157nm技术的研发，结果不尽人意。而ASML放弃了157nm，在台积电的支持下，转投其他新技术。2004年，ASML正式推出浸没式光刻机的原型机；2006年，ASML的XT 1400i进入英特尔并顺利通过40nm工艺的验证，其余厂商纷纷选择ASML的光刻机，尼康推出的157nm的光刻机无人问津。
ASML的第一台浸润式光刻机XT 1400i
2009年，ASML拥有近7成的市场份额，远超对手尼康。2010年，ASML诞生出人类第一台EUV工程样机：NXE 3100，2012年收购Cymer，加大对EUV的研发力度，2018年，正式商用版的EUV光刻机NXE 3300开始出货。
本次光刻机之战，尼康落败，ASML开启封王之路。光刻机领域，ASML占到90%以上。
芯片制程缩小至3nm，对EUA光刻技术的要求会更加严苛，新技术还得看ASML。
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