近日清华提出的SSMB-EUV光源技术引起了大家极大的兴趣。随后，“大型EUV光刻厂”设想被提出，这一设想就是说，中国可以建加速器产生EUV光源，不同频率的光源可以给28nm、14nm、7nm、5nm等多种芯片制程使用，用“光刻厂”替代ASML的EUV光刻机，以出人意料的创新思维打破美国封锁。这个设想一经提出，瞬间感觉国产光刻机有希望了。
但是，这个想法到底靠不靠谱，切实可行吗？
首先，EUV光源的产生需要大量的投资和技术的积累。目前，EUV光源主要通过采用同步辐射技术产生，但是同步辐射源的规模通常都比较小。如果要实现大型EUV光刻厂，需要研制出更大规模的同步辐射光源。
其次，EUV光刻机是极其复杂的高端设备，其制造和维护需要大量的技术和资金投入。一台先进的EUV光刻机需要数千万美元甚至数亿美元的投资，并且需要一支庞大的技术团队进行维护和升级。如果建设大型EUV光刻厂，需要研制出更加先进、更加稳定的EUV光刻机。
最后，建设大型EUV光刻厂还需要考虑市场需求和经济效益。尽管EUV光刻机在芯片制造领域具有极其重要的地位，但是其市场需求量并不大，因此，建设大型EUV光刻厂需要考虑市场和经济效益，确保投资能够得到有效的回报。
因此，要深入研究和攻克多项关键技术难题，同时需要考虑市场需求和经济效益，制定切实可行的实施方案，才有可能实现这一设想。
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